芯制造
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制造技术
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  基于模型的光学邻近效应修正的关键是建立精确的光刻工艺模型。可靠的OPC模型可以完整的描述包括光学系统、掩膜、光...

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编者按:中国科学院大学微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解,微电子学院...

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  光刻对准技术由最初的明场和暗场对准发展到后来的干涉全息或外差干涉全息对准、混合匹配、由粗略到精细对准技术等。对...

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编者按:中国科学院大学微电子学院是国家首批支持建设的示范性微电子学院。为了提高学生对先进光刻技术的理解,本学期微电...

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对于数字集成电路设计,一般分为数字前端与数字后端两部分。我将分别介绍这两部分的设计流程。水平有限,如有错误之处希望...

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  英特尔、台积电、三星、GlobalFoundries等半导体制造巨头相继发布了7nm工艺的研发计划。从目前来看...

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