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【NEWS】“工艺技术”专题—第七届国际先进光刻技术研讨会 (IWAPS 2023)

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发表时间:2023-09-20 16:11
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第七届国际先进光刻技术研讨会

(IWAPS 2023)


“工艺技术”专题

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    近年来,集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业,尤其在中国,集成电路产业受到了前所未有的关注,并在政策和资本的推动下获得了蓬勃发展。基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。

    自2017年以来,IWAPS已经在全国各地成功举办六届。会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加,行业反响热烈,业已成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外,IWAPS自2020年起已被IEEE收录,接收论文将被送检IEEE Xplore与EI。欢迎大家踊跃报名!


第七届IWAPS将于2023年10月25-26日于浙江丽水举行

请于2023年10月24日报到


欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导,参会


参会名额有限,有意者请及时报名参会


官网报名链接:

https://www.iwaps.org/cn/index/10

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手机扫描二维码,通过邀请函报名

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-工艺技术-

No.01

EUV coherent scattering and imaging for semiconductor metrology


用于半导体量测的极紫外光(EUV)相干散射及成像技术

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极紫外光刻(EUV lithography)是半导体制造中领先的技术,主要因其短波长的优势而著称,能够为未来技术节点提供高分辨率的图形制作。尽管如此,进一步缩小尺寸面临着掩模和晶圆测量方面的挑战。传统成像的一个强有力替代方案是无透镜成像,即相干衍射成像(CDI)。在我们最近的演示中,我们将EUV CDI应用于多层涂层和保护薄膜的EUV掩模,揭示了其在检测20纳米以下的吸收缺陷和相位缺陷方面的卓越能力。无透镜方法的一个显著优势在于其固有的灵活性,允许操纵波长和入射角度,从而进一步增强成像能力。此外,这些方法还能够同时使用不同的测量技术,如散射仪和反射仪。因此开发了一种新型的晶圆检测仪,能够在纳米尺度上进行非破坏性检测,并适应各种结构和材料。总之,EUV光不仅在光刻中用于制造更小尺寸结构,而且成为了未来技术节点中用于表征和分析这些复杂特征的重要方法。无透镜成像和EUV工具的结合对于推进半导体制造所需的测量和检测具有巨大的潜力。

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作者简介


Yasin Ekinci是保罗·舍勒研究所X射线纳米科学与技术实验室主任,他负责6个研究小组、3个同步辐射光束线和一个X射线自由电子激光束线。他于2003年在德国哥廷根的马克斯·普朗克动力学和自组织研究所获得博士学位。他曾在多个纳米科学和技术领域工作,包括原子光学、表面科学、EUV光刻、光刻胶材料、相干散射、无透镜成像、等离子体学、超材料、半导体纳米结构、生物传感器和纳米流体。他发表了超过250篇论文和10项专利。他曾获得瑞士学会年度青年研究员奖,也是SPIE的Fellow。



No.02

The Influence of aberration on 193 nm immersion (193i) lithography


像差对193纳米水浸没(193i)光刻工艺窗口的影响

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像差会对光刻工艺窗口产生影响,例如彗差可能会影响线宽、对比度,并导致图案偏移;球差可以改变某些图案的焦深度(DoF),降低对比度等等。本文以几种常见的Zernike像差(球差和彗差)为例,阐述了193纳米水浸没光刻机中超出规格的像差对1D整个周期和一些2D图形工艺窗口的影响。通过分析仿真结果,可以得出结论,当像差增加到特定值时,其仍然可以被某个节点的光刻工艺接受。

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作者简介


李艳丽博士于2015年毕业于复旦大学,并曾在SMIC、ICRD和现在的复旦大学工作。她在28纳米、14纳米、10纳米和5纳米技术节点的逻辑光刻工艺开发方面有较为丰富的研发经验。她是光刻领域的22篇技术论文和42项专利的作者或合著者。其中两项专利已获得美国专利。她获得了2020年CSTIC杰出青年工程师二等奖和2022年ICSICT杰出青年学者论文奖。




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此外,还有来自多家集成电路制造企业、高校研究院所的多位演讲者莅临演讲或海报展示,敬请期待,欢迎参会交流。


-往年论文集-

IWAPS 2020:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

IWAPS 2021:https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding

IWAPS 2022:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding



IWAPS 2023 会议筹备工作已经展开

更多信息,敬请关注会议官网

www.iwaps.org/cn

(请复制链接后在浏览器中打开)

以及“光刻人的世界”微信公众号

我们会随时更新


官网报名链接:

https://www.iwaps.org/cn/index/10

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丽水特色半导体

“万亩千亿”新产业平台

2023年2月,省委书记易炼红同志深入丽水经开区调研指导工作时指出:“丽水经开区半导体产业园的发展充分证明,只要铆足‘从无到有’的开拓进取精神,革命老区也能集聚和打造世界一流企业。”这是对丽水市抢抓国家集成电路发展窗口机遇所取得的初步成绩给予的最大肯定。

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近两年,浙南盆地丽水市忽然声名鹊起,昔日人们习惯认知中的资源匮乏、交通闭塞、不显山不显水的“边陲小城”丽水,竟然与数字经济的宠儿——芯片产业成功牵手。一大批在集成电路领域颇有影响力的龙头企业和单打冠军企业纷至沓来,一项项具有国内外先进水平的特色半导体制造项目落地浙江“绿谷”,一幢幢现代化厂房鳞次栉比,一批批高精尖的半导体产品从这里生产线流出并运往全国各地。“忽如一夜春风来,千树万树梨花开”,倏忽间,在丽水经开区逐步形成了从设计、制造、封测到原材料乃至设备的全链产业集群,特色半导体产业平台获批省第四批“万亩千亿”新产业培育平台,成为全省 “芯产业新地标”,为浙江省建设集成电路强省提供了丽水贡献,在全国集成电路产业高质量发展的进程中深深地烙下了 “绿谷印记”。


近年来,丽水市认真践行“八八战略”,始终牢记习近平总书记“加快先进制造业基地建设,走新型工业化道路”重要嘱托,坚持“发展阶段不可逾越、发展阶梯可以跨越”理念,抢抓国家集成电路产业发展窗口机遇期,“无中生有”培育形成特色半导体产业集群。经过四年努力,累计落地项目29个,总投资额近600亿元,初步形成“一园一链两基地”发展格局。半导体全链条产业纳入全省集成电路产业规划,特色半导体产业平台获批省第四批“万亩千亿”新产业培育平台。

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丽水经开区微信公众号:

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