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【NEWS】“掩模&材料”专题—第七届国际先进光刻技术研讨会 (IWAPS 2023)

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发表时间:2023-09-22 14:16
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第七届国际先进光刻技术研讨会

(IWAPS 2023)


“掩模&材料”专题

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    近年来,集成电路产业已经成为世界各国越来越重视的战略性产业,尤其在中国,集成电路产业受到了前所未有的关注,并在政策和资本的推动下获得了蓬勃发展。基于这样的形势,国际先进光刻技术研讨会(International Workshop on Advanced Patterning Solutions, IWAPS)应运而生。IWAPS为来自国内外半导体工业界、学术界的资深技术专家和优秀研究人员等提供了一个技术交流平台,参会者可以就材料、设备、工艺、测量、计算光刻和设计优化等主题分享各自的研究成果,探讨图形化解决方案,研讨即将面临的技术挑战。

    自2017年以来,IWAPS已经在全国各地成功举办六届。会议投稿、会议报告与参会人数逐年增加,行业反响热烈,业已成为国内高端光刻技术领域的重要会议。此外,IWAPS自2020年起已被IEEE收录,接收论文将被送检IEEE Xplore与EI。欢迎大家踊跃报名!


-组委会-

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第七届IWAPS将于2023年10月25-26日于浙江丽水举行

请于2023年10月24日报到


欢迎各位学术和产业届的朋友莅临指导,参会


参会名额有限,有意者请及时报名参会


官网报名链接:

https://www.iwaps.org/cn/index/10

扫码报名:

手机扫描二维码,通过邀请函报名

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-掩模&材料-

No.01

Recent progress of EUV resist development for improving Chemical Stochastic

改善EUV光刻胶化学随机效应的近期研究进展

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2019年,极紫外(EUV)光刻技术应用到量产制造(HVM)以用于制备更先进的半导体器件。这对热忱于EUV的人以及半导体工业来说是一件非常重要的事。因为研究EUV光刻以实现量产应用花费了超过30年的漫长时间。随着近些年光源功率的快速提升,包含光刻胶材料在内的EUV光刻已经达到了量产的基本要求。但是,即便是最先进的EUV光刻胶材料,它的性能也不能达到理想预期。其中的一个关键问题是随机问题,这将导致“缺陷”的存在,比如纳米桥接(Nano-Bridge)或者是纳米挤压(Nano-Pinching)。作者将EUV光刻技术中的随机因素进行了分类,并在文中描述了他们的改进情况。光子随机和化学随机是在光刻中观测到的两个主要随机因素。本报告还将讨论包含光刻性能在内的每一个随机因素的改进情况。

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作者简介


TORU FUJIMORI是富士胶片株式会社的高级专家,分别于1989年和1991年获得日本埼玉大学有机化学学士和硕士学位。1991年加入富士胶片株式会社,担任合成有机化学实验室的研究员,并拥有3年相片胶片新材料制备的研究经历,和8年半导体材料(光刻胶材料)的研究经历。2002年转到电子材料实验室,研究用于图像传感器的彩色光刻胶。2008年之后担任研发经理,一直致力于KrF,ArF,ArF浸没式,电子束,极紫外光刻胶的研究。2014-2016年,作为富士胶片株式会社的代表,他是日本国家项目EIDEC联盟(极紫外基础设施研发中心)的高级研究员。他申请了超过200项专利,发表了大量文章、报告和著作。



No.02

A Novel Metal-organic Resist Platform for High-Resolution Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography


一种用于高分辨率EUV光刻的金属-有机物光刻胶平台

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未来半导体工艺节点的发展面临着重大的挑战。其中,满足极紫外光刻(EUVL)技术严格规范要求的具有高灵敏度和高分辨率的光刻胶,是阻碍未来发展的主要挑战之一。为了应对这些挑战,我们开发了一种新型金属有机光刻胶平台。通过该平台,我们探索了新型的金属有机光刻胶,旨在提升图像的分辨率,并在保持灵敏性的同时降低线宽粗糙度。这种金属有机光刻胶的合成特征是在分子光刻胶中包含了质量小于500道尔顿的金属(或类金属),以及围绕中心金属原子的可灵活调节的有机环境。这种灵活可调节的特性,为调整这些光刻胶的灵敏度和原子经济性提供了相当大的工艺自由度。更重要的是,该光刻胶平台是一种通用方案,用于制备既兼容EUV光刻又兼容电子束光刻的含金属/类金属功能光刻胶。在演讲中,作者将讨论所选光刻胶的EUV和电子束光刻的图案光刻的实验结果,并展示高分辨率图案制备的一些示例。

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作者简介


M. S. M. Saifullah博士是瑞士保罗谢勒研究所(PSI)的科学家。1994年,他以优异成绩获得印度班加罗尔印度科学研究所冶金系工程硕士学位。在获得著名的剑桥尼赫鲁奖学金后,他进入剑桥大学材料科学与冶金系攻读博士学位。在此期间,他还是英国切弗宁学者。1997年获得博士学位后,他在日本厚木市NTT基础研究实验室的器件物理实验室工作了两年,担任研究员。2000年6月,他加入剑桥大学工程系,担任研究助理。两年后,他成为IRC研究员,并在剑桥大学纳米科学中心的纳米技术研究合作项目中担任纳米制造项目负责人。之后他以科学家身份加入了新加坡材料研究与工程研究所,直到加入PSI。他的研究领域包括光刻(电子束光刻、纳米压印光刻和纳米注塑成型)、材料化学以及纳米尺度材料性质研究。他是开发用于电子束和纳米压印光刻的非常规直写氧化物光刻胶的早期研究者之一。



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此外,还有来自多家集成电路制造企业、高校研究院所的多位演讲者莅临演讲或海报展示,敬请期待,欢迎参会交流。


-往年论文集-

IWAPS 2020:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9286788/proceeding

IWAPS 2021:https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9670881/proceeding

IWAPS 2022:

https://ieeexplore.ieee.org/xpl/conhome/9971792/proceeding



IWAPS 2023 会议筹备工作已经展开

更多信息,敬请关注会议官网

www.iwaps.org/cn

(请复制链接后在浏览器中打开)

以及“光刻人的世界”微信公众号

我们会随时更新


官网报名链接:

https://www.iwaps.org/cn/index/10

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丽水特色半导体

“万亩千亿”新产业平台

2023年2月,省委书记易炼红同志深入丽水经开区调研指导工作时指出:“丽水经开区半导体产业园的发展充分证明,只要铆足‘从无到有’的开拓进取精神,革命老区也能集聚和打造世界一流企业。”这是对丽水市抢抓国家集成电路发展窗口机遇所取得的初步成绩给予的最大肯定。

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近两年,浙南盆地丽水市忽然声名鹊起,昔日人们习惯认知中的资源匮乏、交通闭塞、不显山不显水的“边陲小城”丽水,竟然与数字经济的宠儿——芯片产业成功牵手。一大批在集成电路领域颇有影响力的龙头企业和单打冠军企业纷至沓来,一项项具有国内外先进水平的特色半导体制造项目落地浙江“绿谷”,一幢幢现代化厂房鳞次栉比,一批批高精尖的半导体产品从这里生产线流出并运往全国各地。“忽如一夜春风来,千树万树梨花开”,倏忽间,在丽水经开区逐步形成了从设计、制造、封测到原材料乃至设备的全链产业集群,特色半导体产业平台获批省第四批“万亩千亿”新产业培育平台,成为全省 “芯产业新地标”,为浙江省建设集成电路强省提供了丽水贡献,在全国集成电路产业高质量发展的进程中深深地烙下了 “绿谷印记”。


近年来,丽水市认真践行“八八战略”,始终牢记习近平总书记“加快先进制造业基地建设,走新型工业化道路”重要嘱托,坚持“发展阶段不可逾越、发展阶梯可以跨越”理念,抢抓国家集成电路产业发展窗口机遇期,“无中生有”培育形成特色半导体产业集群。经过四年努力,累计落地项目29个,总投资额近600亿元,初步形成“一园一链两基地”发展格局。半导体全链条产业纳入全省集成电路产业规划,特色半导体产业平台获批省第四批“万亩千亿”新产业培育平台。

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丽水经开区微信公众号:

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