国际先进光刻技术研讨会(IWPAS) 2017

会议名称：

　　国际先进光刻技术研讨会　2017

        International Workshop in Advanced Patterning Solutions

时间：2017年10月12日至13日

地点：北京　北京国际会议中心

主办单位：集成电路产业技术创新战略联盟

承办单位：中国科学院微电子研究所

会议介绍：

　　近年来，国家投入巨资发展集成电路产业，作为集成电路产业核心的制造业也得到了蓬勃的发展。基于这样的形势，国家集成电路产业技术创新战略联盟决定在北京主办首届国际先进光刻技术研讨会（International Workshop on Advanced Patterning Solutions），本次研讨会由中国科学院微电子研究所承办。

　　作为在中国大陆举办的首个此类研讨会，和其它国际光刻会议（如SPIE Advanced Lithography Meeting）有所不同，会议以当前业界最先进的主流技术为主，其目的是研讨未来五年光刻技术所面临的问题，归纳、总结出业界可行的技术方案。本次研讨会为来自国内外不同学科的优秀研究人员和工程师搭建了一个技术交流平台，参会者能够就设计规则、掩模、光刻技术方案、计算光刻等分享各自的研究成果。作为国内首个高端光刻技术研讨会，其发言者均为来自光刻及其相关领域的国内、外资深专家，代表了其所在领域的国际先进水平。该研讨会旨在提供与会者一个深入讨论的互动平台。也为想要了解更多中国半导体业态的国外研究者和工程师提供了一次机会。

委员会

　　组委会主席：曹健林　　集成电路产业技术创新战略联盟主席组委会主席、原科技部副部长、研究员

　　副主席：叶甜春　　中国科学院微电子研宄所所长、中国科学院 EDA中心常务副理事长、研宄员

　　副主席：黎家辉　　OSA与SPIE协会会士、IBM T.J. Watson研宄中心研宄员

　　秘书长：韦亚一　　中国科学院微电子研宄所、计算光刻研发中心主任、先导工艺中心研宄员

　　委员：（姓氏拼音排序）

　　　　董昊            科磊半导体设备技术（上海）有限公司(KLA Tencor)

　　　　段立峰        上海微电子装备（集团）股份有限公司(SMEE)

　　　　冯耀斌        长江存储科技有限责任公司(YMTC)

　　　　李劲            阿斯麦（上海）光刻设备科技有限公司(ASML)

　　　　毛智彪        南大光电材料股份有限公司(Nata）

　　　　藤原考一    捷时雅（上海）商贸有限公司(JSR)

　　　　王永东        新思科技(SYNOPSYS)

　　　　伍强            中芯国际集成电路新技术研发（上海）有限公司（ SMIC）

　　　　俞宗强        东方晶源微电子科技（北京）有限公司(DJEL)

　　　　朱睃            上海华力微电子有限公司(HI-MC)

　　　　张立国        明导（上海）电子科技有限公司(Mentor)

　　　　张先安        凸版印刷株式会社(TOPPAN)

会议日程：

　　会议日程主席：黎家辉（Kafai Lai），韦亚一