【光刻】曝光剂量修正 dosemapper，DOMA

　　曝光剂量修正（dosemapper，DOMA）是ASML光刻机的一种功能，它能对曝光剂量做修正，提高曝光区域之间的和曝光区域内部的线宽均匀性[1]。

具体做法是，首先测量整个晶圆上的线宽数据，然后把这些数据上载到光刻机dosemapper服务器。服务器根据事先设定的（线宽-能量关系）参数，计算出曝光剂量的修正值在晶圆表面的分布[2]。这一曝光剂量的修正以子程序的方式链接在下一次的曝光文件中。

　 　曝光剂量的修正包含两部分：一个是不同曝光区域之间的修正，即根据平均线宽的不同，对曝光区域加一个剂量修正，如图1所示。另一个是曝光区域内部的修正，这个比较复杂。导致曝光区域内部CD不均匀的原因可能有两个：一个是沿曝光缝隙曝光能量不均匀，即X方向CD不均匀；另一个是曝光扫描时能量的不均匀，即Y方向CD的不均匀性，如图2所示。X方向的线宽不均匀性可以通过调整光强沿缝隙的分布来补偿，这种光强修正被称为“Unicom”。Y方向的线宽不均匀性可以通过调整扫描的速度来补偿，这种修正被称为“Dosicom”[1]。

图1 曝光区域之间的能量不一样

图2 曝光区域内部的能量修正

参考文献：

[1] 韦亚一. 超大规模集成电路先进光刻理论与应用. 科学出版社. 2016：113-114

[2] 张冬青. 光刻机像质检测技术中曝光剂量范围的确定方法. 中国专利. CN1266548C[P]. 2006：4-5