【刻蚀】刻蚀修饰法 trim-etch approach

　　 刻蚀修饰法是在定向自组装工艺中实现中性衬底中部分区域非中性化的一种手段。

　 　图1的“刻蚀修饰法”方案则是由Paul Nealey和他的学生Chichun Liu 所发明，该方案主要工艺步骤如下：

　 　1)通过旋涂、退火、清洗制作非中性的 PS 层；

　 　2)使用浸没式光刻在 PS 层上制作出光刻胶条状结构；

　 　3)使用离子刻蚀修饰光刻胶条宽度并转移至 PS 层上；

　 　4)使用专用有机溶剂去除光刻胶；

　 　5)在没有 PS 的区域制作中性层；

　 　6)洗去未接上的中性层材料，形成最终化学诱导衬底。

图1 刻蚀修饰法

　 　刻蚀修饰法因为衬底表面完全水平，因此获得的工艺窗口较大，缺陷较少，但是工艺复杂，控制难度大。

参考文献：

[1] 嵌段共聚物定向自组装光刻技术研究（博士学位论文），陈文辉，中国知网，2016年，33-34