洗脱法 lift-off approach

　 　洗脱法是在定向自组装工艺中实现中性衬底中部分区域非中性化的一种手段。

　 　图1的“洗脱法”方案是由Tokyo Electron公司和IMEC合作开发，在2012年的SPIE 会议上发布，该方案分主要工艺步骤如下：

　 　1)先采用正性浸没式光刻胶在 BARC 层上制作出大尺寸条状结构；

　 　2)经过 UV 曝光和烘烤将光刻胶极性反转，使其在后续洗脱中能够溶于TMAH 显影液；

　 　3)在光刻胶条状结构上制作一层中性层；

　 　4)使用TMAH 将光刻胶条状结构及其上方与侧壁的中性层洗脱，留下覆盖在衬底上的周期性中性层图形，此时被洗去的部分露出非中性的衬底表面；

　 　5)旋涂嵌段共聚物；

　 　6)退火使嵌段共聚物分相。

图1 洗脱法

　 　洗脱法的工艺较为简单，但获得的工艺窗口较小，且缺陷较多，这是由于其衬底表面的不平整引起的。

参考文献：

[1] 嵌段共聚物定向自组装光刻技术研究（博士学位论文），陈文辉，中国知网，2016年，33-34