【NEWS】助力先进光刻研究，EUV光刻仿真联合实验室成立

　　11月27日，中国科学院微电子研究所与新思科技正式组建“EUV光刻仿真联合实验室”并举行揭牌仪式。中科院微电子研究所所长、中国科学院EDA中心常务副理事长叶甜春研究员，中科院集成电路先导工艺研发中心副主任殷华湘研究员，中科院微电子研究所科技处处长李平研究员，中科院微电子研究所计算光刻研发中心主任韦亚一研究员，新思科技半导体事业部全球总经理柯复华、新思科技全球资深副总裁暨亚太总裁林荣坚、新思科技中国副总经理陈志昌、新思科技中国区半导体事业部销售总监肖长青等出席揭牌仪式。

　 　中科院微电子所所长叶甜春：“早从2003年开始，作为第一家合作单位，新思科技与中科院微电子所成立了EDA研究中心。15年来，我们不断深化合作，目前科学院10多个研究所，20多个课题组都使用新思科技的解决方案从事科研工作。此次EUV光刻仿真联合实验室的成立，开启了新的合作点，将共同提高中国EUV研发能力。"

　新思科技半导体事业部、全球总经理柯复华：“集成电路产业在中国蓬勃发展，正迅速接近国际水平，国内第一台EUV也即将于2019年投入使用，预计对于EUV的光刻仿真及应用的需求将变得越来越迫切。为更好地服务于这个迅速成长的中国市场，新思科技一直努力深化提高在中国集成电路产业的参与度。我们非常高兴此次能够和国内领先的微电子研究所共建EUV光刻仿真联合实验室，使我们的产品和服务更加贴近国内芯片制造商的迫切需要，共同提高中国集成电路在EUV方面的应用水平。”

　 揭牌仪式后，双方就合作方式，技术交流，人员互访，学生培养等展开讨论。未来，新思科技将持续并加强产学研合作，助力培养更多更高质量的EUV领域尖端人才并不断坚持技术创新，推动中国集成电路产业的发展。