【光刻】亚分辨率辅助图形 Sub-Resolution Assistant Feature，SRAF3035
在集成电路设计版图中的稀疏图形周围添加一些细小的图形，使稀疏图形在光学角度上看像密集图形，这些细小图形必须小于光刻机分辨率，曝光时，这些图形只对光线其散射作用，而不会被转移到光刻胶上，因此被称之为亚分辨率辅助图形或散射条（Scattering Bar）[1]。 一个设计中通常既有密集分布的图形（如1：1等间距的线条），也有稀疏的图形（如独立的线条），特别是逻辑器件的设计，具有更大的任意性。理论和实验结果都清楚地表明，密集分布图形的光刻工艺窗口与稀疏图形的光刻工艺窗口是不一样的，这就导致了共同的工艺窗口偏小。适用于密集图形曝光的光照条件并不适合稀疏图形的曝光。为减少集成电路版图中因图形密度不同引起的工艺差异，在掩模图形中图形比较稀疏的周围区域插入亚分辨率图形，提高焦深和工艺窗口均匀性的方法。所插入的图形尺寸小于光刻系统成像分辨率，是一些平行于掩模图形的细长方形线条，本身在曝光时不会形成光刻图形，但又对附近的掩模图形光刻成像光强分布产生影响。与光学邻近效应校正类似，插入亚分辨率辅助图形也分为基于经验规则的辅助图形（rule-based SRAF）和基于计算模型的辅助图形（model-based SRAF）。插入在稀疏的线条中间的亚分辨率辅助图形也称散射条（Scattering Bar，SB）。亚分辨率辅助图形最早于90nm 节点时被引入，几乎和基于模型的OPC同时引入[2]。 参考文献： [1] 韦亚一，超大规模集成电路先进光刻理论与应用[M]，科学出版社，2016，362-363 [2]粟雅娟，刘艳松，韦亚一，先导光刻中的光学邻近效应修正[J]，微纳电子技术， 2014，51(3)：186-193 |